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陶瓷覆铜电路板系列

  • 35*25陶瓷芯片,镀金陶瓷板,光刻陶瓷多层板,离子注入陶瓷集成电路
35*25陶瓷芯片,镀金陶瓷板,光刻陶瓷多层板,离子注入陶瓷集成电路

35*25陶瓷芯片,镀金陶瓷板,光刻陶瓷多层板,离子注入陶瓷集成电路

产品名称:35*25陶瓷芯片,镀金陶瓷板,光刻陶瓷多层板,离子注入陶瓷集成电路

晶片材质:Si02,>99.99%
封装外壳材质:A1N,>98%
光刻浆厚度:0.00035mm
光刻掩膜层数:22层
光刻类型:紫外线
内置晶体管规格:115nm
内置电路工艺:蚀刻+离子注入
离子注入速度:300000km/h
总厚度:4.0mm
电极:陶瓷金属化+覆铜
表面:抛光陶瓷烧成
温度:1680℃
陶瓷导热系数:270W/k.m
平面度:〈0.035mms
陶瓷体积电阻率:>1013Q.Cm
陶瓷硬度:>1150HV5

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